Tim IDXChannel
IDXChannel — Produsen semikonduktor Intel resmi menggunakan mesin litografi generasi terbaru buatan ASML untuk memproduksi sebagian chip laptop unggulannya, Panther Lake.
Langkah ini diambil produsen chip asal Amerika Serikat (AS) itu guna meningkatkan efisiensi, serta mendorong penggunaan teknologi tercanggih dalam industri manufaktur chip.
Dikutip dari CNA pada Rabu (15/7/2026), ASML mengungkapkan bahwa Intel mulai menggunakan mesin High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) tersebut setelah melalui serangkaian pengujian yang telah dilakukan sejak 2024. Mesin ini berfungsi untuk mencetak pola sirkuit mikro pada chip dengan presisi tinggi.
Adopsi teknologi High NA menjadi sorotan industri karena biayanya yang sangat tinggi. Peralatan canggih ini dibanderol sekitar USD400 juta (setara Rp6,5 triliun) per unit, atau dua kali lipat dari harga mesin EUV standar.
Selain nilai investasi yang masif, pengintegrasian teknologi ini ke dalam lini produksi massal memiliki tantangan teknis yang cukup kompleks, kendati dinilai krusial seiring kebutuhan industri untuk terus memperkecil ukuran fitur komponen sirkuit hingga ke skala atomik.
Intel mulai menerima unit High NA pertama pada 2024 yang ditempatkan di fasilitas riset dan pengembangan di Hillsboro, Oregon.
Saat ini, Intel menerapkan penggunaan mesin High NA EUV pada lapisan spesifik chip Panther Lake. Langkah ini memungkinkan Intel dan ASML untuk mengumpulkan data operasional serta mengoptimalkan performa alat dalam skala produksi nyata.
Pihak Intel sendiri memilih untuk tidak memberikan komentar terkait pengumuman dari ASML tersebut. (Reporter: Sheqilla Sukma) (Wahyu Dwi Anggoro)
